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CMP研磨液粒度測(cè)量技術(shù)SPOS對(duì)比激光衍射CMP研磨液的粒度分析：SPOS與激光衍射半導(dǎo)體行業(yè)正在朝著更小的線寬和更多的層數(shù)發(fā)展。實(shí)現(xiàn)這種更高密度芯片技術(shù)的最重要的工藝考慮因素之一是對(duì)平坦化步驟更復(fù)雜的控制。平坦化或拋光步驟通過使用主要為...

要檢測(cè)多少粒子？AccuSizer®系統(tǒng)AccuSizer®生成的結(jié)果是粒度分布。分布的屬性受統(tǒng)計(jì)規(guī)則的約束。使用粒度分析儀時(shí)，一個(gè)重要的問題是需要測(cè)量多少樣品才能正確定義所得粒度分布。本技術(shù)說明從數(shù)學(xué)和實(shí)驗(yàn)兩個(gè)方面解決這個(gè)...

為什么購買AccuSizer顆粒計(jì)數(shù)系統(tǒng)？有太多理由讓您的下一個(gè)粒度分析儀選擇AccuSizer®系統(tǒng)什么是ACCUSIZER系統(tǒng)使用單顆粒光學(xué)傳感（SPOS）技術(shù)的顆粒計(jì)數(shù)器和粒度分析儀。具有多種配置可選，但所有系統(tǒng)都包括SPOS...

折射率作為制藥中液體的質(zhì)量控制指標(biāo)本文介紹了采用四種分析系統(tǒng)（pH、電導(dǎo)率、滲透壓和折光率）對(duì)九種緩沖液進(jìn)行分析案例比較。介紹制藥產(chǎn)品的研發(fā)和制造涉及的復(fù)雜過程需要先進(jìn)的過程分析技術(shù)，即使是常規(guī)應(yīng)用。此要求適用于不銹鋼和玻璃容器中的大規(guī)模制...

DLS數(shù)據(jù)解析Nicomp®系統(tǒng)概述EntegrisNicomp®動(dòng)態(tài)光散射（DLS）系統(tǒng)是一種易于使用的粒度和zeta電位分析儀。本技術(shù)文檔顯示了Nicomp的典型結(jié)果，并對(duì)聲場(chǎng)的數(shù)據(jù)進(jìn)行解析說明。簡介：動(dòng)態(tài)光散射DLS技...

AccuSizer®數(shù)據(jù)解析AccuSizer系統(tǒng)概述EntegrisAccuSizer®既是液體粒子計(jì)數(shù)器，也是高分辨率粒度分析儀。本技術(shù)說明顯示了AccuSizer的典型結(jié)果，并對(duì)生成的數(shù)據(jù)進(jìn)行解釋。單顆粒光學(xué)計(jì)數(shù)Acc...

高濃度顆粒計(jì)數(shù)器是一種用于測(cè)量空氣中顆粒物濃度的儀器。它具有以下技術(shù)優(yōu)勢(shì)：高濃度測(cè)量能力：高濃度顆粒計(jì)數(shù)器可以測(cè)量高濃度的顆粒物，通常可以測(cè)量數(shù)百萬個(gè)顆粒物/cm3的濃度。這使得它在一些需要測(cè)量高濃度顆粒物的應(yīng)用中非常有用，例如空氣污染監(jiān)測(cè)...

DLS數(shù)據(jù)解析Nicomp®系統(tǒng)概述EntegrisNicomp®動(dòng)態(tài)光散射（DLS）系統(tǒng)是一種易于使用的粒度和zeta電位分析儀。本技術(shù)文檔顯示了Nicomp的典型結(jié)果，并對(duì)聲場(chǎng)的數(shù)據(jù)進(jìn)行解析說明。簡介：動(dòng)態(tài)光散射DLS技...